Atomic Layer Deposition and Thermal Transformations of Thin Titanium–Vanadium Oxide Films Научная публикация
| Журнал |
Russian Journal of Applied Chemistry
ISSN: 1070-4272 , E-ISSN: 1608-3296 |
||
|---|---|---|---|
| Вых. Данные | Год: 2021, Том: 94, Номер: 7, Страницы: 890-902 Страниц : DOI: 10.1134/s1070427221070053 | ||
| Авторы |
|
||
| Организации |
|
Библиографическая ссылка:
Abdulagatov A.I.
, Maksumova A.M.
, Palchaev D.K.
, Rabadanov M.K.
, Abdulagatov I.M.
Atomic Layer Deposition and Thermal Transformations of Thin Titanium–Vanadium Oxide Films
Russian Journal of Applied Chemistry. 2021. V.94. N7. P.890-902. DOI: 10.1134/s1070427221070053 Scopus OpenAlex
Atomic Layer Deposition and Thermal Transformations of Thin Titanium–Vanadium Oxide Films
Russian Journal of Applied Chemistry. 2021. V.94. N7. P.890-902. DOI: 10.1134/s1070427221070053 Scopus OpenAlex
Идентификаторы БД:
| Scopus: | 2-s2.0-85116310084 |
| OpenAlex: | W3203411115 |