Фотопревращения аллильных радикалов, химически связанных с поверхностью диоксида кремния Научная публикация
Журнал |
Химия высоких энергий
ISSN: 0023-1193 |
---|---|
Вых. Данные | Год: 1997, Том: 31, Номер: 1, Страницы: 25-32 Страниц : 8 |
Авторы |
|
Организации |
Реферат:
Изучены фотохимические превращения аллильных радикалов структуры ≡SiCH2CH-CH-CH2, ≡SiOCH2CH-CH-CH2, ≡SiOCH2CH2CH-CH-CH2, ≡SiCH2CH2CH2CH-CH-CH2, ≡SiOCH2CH2CH2CH-CH-CH2 (I-V соответственно) при действии света в запрещенном электронном переходе (λ = 370 нм) и комнатной температуре. Установлено, что при фотолизе наблюдается уменьшение общей концентрации радикалов, регистрируемых методом ЭПР при комнатной температуре. Для аллильных радикалов III-V в качестве продуктов фотопревращения зарегистрировано образование химически связанных с поверхностью аэросила радикалов алкильного типа с локализацией неспаренного электрона на α-углеродном атоме, для радикалов II методом ЭПР не зарегистрировано образования парамагнитных центров иной природы при комнатной температуре.
Библиографическая ссылка:
Пергушов В.И.
, Осокина Н.Ю.
, Мельников М.Я.
Фотопревращения аллильных радикалов, химически связанных с поверхностью диоксида кремния
Химия высоких энергий. 1997. Т.31. №1. С.25-32. РЖ ВИНИТИ
Фотопревращения аллильных радикалов, химически связанных с поверхностью диоксида кремния
Химия высоких энергий. 1997. Т.31. №1. С.25-32. РЖ ВИНИТИ
Идентификаторы БД:
РЖ ВИНИТИ: | 3197.16Б4388 |